ASML:第二代EUV系统预期2024年问世
本文摘要:在第一套趋于紫外线(EUV)影视机器设备月市场销售以前,西班牙半导体行业大型厂ASML透露了产业界盼望已久的此前方案;该企业回应将投资并与电子光学大型厂卡尔蔡司(CarlZeiss)协作,开售数值孔径(numericalaperture,NA)小于0.5的版本,但该新一代机器设备以前2024年之后才不容易批量生产。

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在第一套趋于紫外线(EUV)影视机器设备月市场销售以前,西班牙半导体行业大型厂ASML透露了产业界盼望已久的此前方案;该企业回应将投资并与电子光学大型厂卡尔蔡司(CarlZeiss)协作,开售数值孔径(numericalaperture,NA)小于0.5的版本,但该新一代机器设备以前2024年之后才不容易批量生产。  ASML回应准备投资20亿美金进行所述新的机器设备的产品研发,将以11亿美金现钱企业并购卡尔蔡司24.9%的股权;除此之外ASML将一次投资大概2.44亿美金在协作产品研发专案上,并在接下去六年于资产机器设备及其别的市场的需求层面加仓投资六亿美金。

  所述协作案再作一次表明了半导体材料产业界追上摩尔定律(Moore'sLaw)的每日任务,是怎样地更为简易、得成本的成本也高些。现阶段最技术设备的芯片线宽小至35奈米,而第一代EUV系统软件将应用0.33NA的光学玻璃搭建大概13奈米的线宽;而0.5NA版本将能搭建大概8奈米的线宽。  市场调研组织VLSIResearch首席总裁RistoPuhakka回应:ASML在过去不曾必需投资供应链管理上的一切生产商,并且是企业并购那么大占比的股权;这说明要打造新一代的系统软件是个高危每日任务,另外说明投资了巨额资产的ASML显而易见信心满满。

  除开宣布与卡尔蔡司的协作案信息,ASML也传递了对其即将准备提供支援批量生产的第一代EUV系统之消极预估;该企业执行长PeterWennink回应:预估到2018年,将有第一批应用目前技术性之EUV扫描的芯片在大家的顾客生产流水线批量生产市场销售。


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